Description
La couche mince modifie les propriétés du substrat sur lesquels elle est déposée. Pour les applications les plus contraintes, où un contrôle à la couche atomique près doit être effectué, les bâtis utilisés sont sous un vide très poussé. Au sein de ces bâtis, un contrôle in-situ non destructif est nécessaire pour maitriser les variations des étapes de dépôt. Différents systèmes permettant une mesure optique ont été développés. Ils font appel à des éléments complexes, onéreux, et difficiles à mettre en œuvre par des non spécialistes.Notre solution permet la mesure simultanée des flux de plusieurs éléments atomique de façon simple et robuste.
Applications
Équipements de la microélectronique :- Epitaxie (MBE, MOCVD…)
- Dépôt couche mince (CVD, Evaporation)
